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技術(shù)文章

shinkuu真空鍍膜設(shè)備的原理及特點(diǎn)

shinkuu真空鍍膜設(shè)備的原理及特點(diǎn)

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本設(shè)備專用于SEM觀察貴金屬薄膜鍍膜。該設(shè)備進(jìn)行貴金屬涂層以防止 SEM 樣品充電并提高二次電子產(chǎn)生的效率。除了磁控靶電極的低壓放電外,樣品臺(tái)是浮動(dòng)的,以減少電子束流入對樣品造成的損壞。操作簡單,只需按下按鈕,沒有任何技巧。它很小,不占用太多空間。在桌子的一角活躍。

檢測原理

主要分成蒸發(fā)跟濺射兩種,需要鍍膜的被稱為基片跟基材,鍍的材料(金屬材料以金,銀,銅,鋅,鋁等,其中用的最多的是鋁)被稱為靶材。基片與靶材同樣在真空腔中。蒸發(fā)鍍膜一般是加熱靶材使表面組分以原子團(tuán)或者原子形式被蒸發(fā)出來,并且沉降在基材表面,通過成膜過程(散點(diǎn)-島狀結(jié)構(gòu)-迷走結(jié)構(gòu)-成狀生長)形成薄膜。對于濺射類鍍膜,可以簡單理解為利用電子或高能激光轟擊靶材。并使表面組分以原子團(tuán)或者離子形式被濺射出來,并且最終濺射在基材表面,經(jīng)過成膜過程,最終形成薄膜。

原理示意圖

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相關(guān)產(chǎn)品介紹

超小型真空鍍膜設(shè)備MSP-mini

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一鍵自動(dòng)鍍膜。沒有麻煩的操作。高性價(jià)比機(jī)器。它是MSP-1S的弟弟。

使用小目標(biāo)(φ30mm)。實(shí)現(xiàn)低運(yùn)行成本。Au 靶材作為標(biāo)準(zhǔn)配置。展示了其在臺(tái)式掃描電鏡預(yù)處理方面的能力。

可選的靶Ag膜具有優(yōu)異的光澤度,便于光學(xué)顯微鏡觀察透明材料表面。

金屬鍍膜設(shè)備MSP-1S

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本設(shè)備專用于SEM觀察貴金屬薄膜鍍膜。該設(shè)備進(jìn)行貴金屬涂層以防止 SEM 樣品充電并提高二次電子產(chǎn)生的效率。除了磁控靶電極的低壓放電外,樣品臺(tái)是浮動(dòng)的,以減少電子束流入對樣品造成的損壞。操作簡單,只需按下按鈕,沒有任何技巧。它很小,不占用太多空間。在桌子的一角活躍。


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