離子濺射成膜裝置
主要由真空室和鍍膜靶組成。工作時(shí)，幾個(gè)金屬靶材對(duì)著基板安置于真空室中。靶材上放置有一個(gè)陰極，該陰極會(huì)發(fā)射電子。電子被磁場聚焦并加速到高速，撞擊靶材表面后會(huì)將原子或分子從靶材表面剝離。 剝離的原子和分子穿過反應(yīng)室，在經(jīng)過減壓區(qū)域后，抵達(dá)基板表面并生成均勻的薄膜。

MSP-mini是用于臺(tái)式SEM觀察、光學(xué)顯微鏡的離子濺射成膜裝置。

★小面積目標(biāo)物，最大限度地減少涂層小面積樣品時(shí)的浪費(fèi)

使用（φ30mm）。

★試料臺(tái)是滑動(dòng)玻璃原封不動(dòng)地裝載的平板試料臺(tái)。

★低電壓涂層，即使對(duì)敏感的樣品也不會(huì)造成樣品損傷。

★用一個(gè)按鈕全自動(dòng)進(jìn)行排氣、涂層、泄漏。

★目標(biāo)金屬為金（Au）標(biāo)準(zhǔn)。您可以選擇銀（Ag）選項(xiàng)。

★排氣系統(tǒng)采用外置RP 5升/min。

★輔助樣品階段（可選）可提高涂層速率和效率

可以成膜。