桌面型潔凈環(huán)境氟氣體濃度監(jiān)測(cè)儀裝置

產(chǎn)品名稱(chēng): 桌面型潔凈環(huán)境氟氣體濃度監(jiān)測(cè)儀裝置

產(chǎn)品型號(hào): FU-100

產(chǎn)品特點(diǎn): 桌面型潔凈環(huán)境氟氣體濃度監(jiān)測(cè)儀裝置
日本 PhotoScience FU-100 是一臺(tái)“潔凈環(huán)境專(zhuān)用"的氟氣體（F?、HF、SF?、NF? 等）濃度測(cè)量裝置，采用真空紫外光離子化（VUV-PID）+ 窄帶濾光片輪技術(shù)，可在 ppb – ppm 范圍內(nèi)連續(xù)、無(wú)耗材、高選擇性地監(jiān)測(cè)潔凈室、EUV 腔體、ALD 設(shè)備排氣中的總氟量或單一氟組分，廣泛用于半導(dǎo)體 7 nm 以下節(jié)點(diǎn)、OLED 蒸鍍、鈣鈦礦

桌面型潔凈環(huán)境氟氣體濃度監(jiān)測(cè)儀裝置 的詳細(xì)介紹

桌面型潔凈環(huán)境氟氣體濃度監(jiān)測(cè)儀裝置

日本 PhotoScience FU-100 是一臺(tái)“潔凈環(huán)境專(zhuān)用"的氟氣體（F?、HF、SF?、NF? 等）濃度測(cè)量裝置，采用真空紫外光離子化（VUV-PID）+ 窄帶濾光片輪技術(shù)，可在 ppb – ppm 范圍內(nèi)連續(xù)、無(wú)耗材、高選擇性地監(jiān)測(cè)潔凈室、EUV 腔體、ALD 設(shè)備排氣中的總氟量或單一氟組分，廣泛用于半導(dǎo)體 7 nm 以下節(jié)點(diǎn)、OLED 蒸鍍、鈣鈦礦電池等對(duì)氟污染極度敏感的產(chǎn)線。

? 核心賣(mài)點(diǎn)

VUV-窄帶輪：10.2 eV 真空紫外燈 + 6 位濾光片輪，F?/HF/NF?/SF? 單一選測(cè)，無(wú)耗材、無(wú)化學(xué)池
ppb 級(jí)下限：0 – 500 ppb F? 檔，檢出限 1 ppb，線性 R2 > 0.999
潔凈對(duì)應(yīng)：全 316L EP + 金屬墊片，Particle ≤ 1 pc/L (≥0.2 µm)，無(wú)死體積 < 0.1 mL
高速響應(yīng)：T90 ≤ 5 s（1 L/min），可捕捉 ALD 脈沖沖洗峰值
雙量程自動(dòng)切換：0 – 500 ppb / 0 – 10 ppm / 0 – 100 ppm 三檔，自動(dòng)跳檔
無(wú)零點(diǎn)漂移：雙光束 VUV + 參考池，24 h 零點(diǎn)漂移 < ±1 ppb
數(shù)據(jù)完整：32 GB 內(nèi)置 + OPC-UA / Modbus TCP，5 年連續(xù)存

日本 PhotoScience FU-100 是一臺(tái)“潔凈環(huán)境專(zhuān)用"的氟氣體（F?、HF、SF?、NF? 等）濃度測(cè)量裝置，采用真空紫外光離子化（VUV-PID）+ 窄帶濾光片輪技術(shù)，可在 ppb – ppm 范圍內(nèi)連續(xù)、無(wú)耗材、高選擇性地監(jiān)測(cè)潔凈室、EUV 腔體、ALD 設(shè)備排氣中的總氟量或單一氟組分，廣泛用于半導(dǎo)體 7 nm 以下節(jié)點(diǎn)、OLED 蒸鍍、鈣鈦礦電池等對(duì)氟污染極度敏感的產(chǎn)線。

? 核心賣(mài)點(diǎn)

VUV-窄帶輪：10.2 eV 真空紫外燈 + 6 位濾光片輪，F?/HF/NF?/SF? 單一選測(cè)，無(wú)耗材、無(wú)化學(xué)池
ppb 級(jí)下限：0 – 500 ppb F? 檔，檢出限 1 ppb，線性 R2 > 0.999
潔凈對(duì)應(yīng)：全 316L EP + 金屬墊片，Particle ≤ 1 pc/L (≥0.2 µm)，無(wú)死體積 < 0.1 mL
高速響應(yīng)：T90 ≤ 5 s（1 L/min），可捕捉 ALD 脈沖沖洗峰值
雙量程自動(dòng)切換：0 – 500 ppb / 0 – 10 ppm / 0 – 100 ppm 三檔，自動(dòng)跳檔
無(wú)零點(diǎn)漂移：雙光束 VUV + 參考池，24 h 零點(diǎn)漂移 < ±1 ppb
數(shù)據(jù)完整：32 GB 內(nèi)置 + OPC-UA / Modbus TCP，5 年連續(xù)存

日本 PhotoScience FU-100 是一臺(tái)“潔凈環(huán)境專(zhuān)用"的氟氣體（F?、HF、SF?、NF? 等）濃度測(cè)量裝置，采用真空紫外光離子化（VUV-PID）+ 窄帶濾光片輪技術(shù)，可在 ppb – ppm 范圍內(nèi)連續(xù)、無(wú)耗材、高選擇性地監(jiān)測(cè)潔凈室、EUV 腔體、ALD 設(shè)備排氣中的總氟量或單一氟組分，廣泛用于半導(dǎo)體 7 nm 以下節(jié)點(diǎn)、OLED 蒸鍍、鈣鈦礦電池等對(duì)氟污染極度敏感的產(chǎn)線。