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產(chǎn)品資料
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非接觸半導(dǎo)體裝置用離子體反應(yīng)溫度測(cè)量計(jì)

產(chǎn)品名稱: 非接觸半導(dǎo)體裝置用離子體反應(yīng)溫度測(cè)量計(jì)
產(chǎn)品型號(hào): Photrix
產(chǎn)品特點(diǎn): 非接觸半導(dǎo)體裝置用離子體反應(yīng)溫度測(cè)量計(jì)
等離子體反應(yīng)溫度 · 非接觸 · 真空 ≤1×10?? Pa · 0.01 °C 分辨率
450-2000 °C · ±0.5 % · 5 ms 響應(yīng) · 重量 1.9 k

非接觸半導(dǎo)體裝置用離子體反應(yīng)溫度測(cè)量計(jì) 的詳細(xì)介紹

非接觸半導(dǎo)體裝置用離子體反應(yīng)溫度測(cè)量計(jì)

非接觸半導(dǎo)體裝置用離子體反應(yīng)溫度測(cè)量計(jì)

一、產(chǎn)品定位

  • 半導(dǎo)體裝置專用:等離子體刻蝕、CVD、離子注入、ALD
  • 等離子體反應(yīng)溫度:非接觸,真空 ≤1×10?? Pa,450-2000 °C
  • Photrix:非接觸等離子體溫度,0.01 °C 分辨率,5 ms 響應(yīng)

二、核心技術(shù)參數(shù)(Photrix)

表格
復(fù)制
項(xiàng)目參數(shù)
原理非接觸等離子體溫度(Photrix 原理)
溫度范圍450 – 2000 °C(全范圍)
分辨率0.01 °C(0.01 °C 分辨率)
精度±0.5 %(450-2000 °C)
響應(yīng)時(shí)間5 ms(非接觸)
真空度≤ 1×10?? Pa(真空版)
大氣版可選(內(nèi)置窗)
真空接口NW16(可轉(zhuǎn) NW25/NW40)
電源DC 24 V 2 A(含 100-240 V 適配器)
尺寸/重量200×150×45 mm,1.9 kg
壽命5 年(傳感器)

三、功能亮點(diǎn)

  1. 450-2000 °C 全范圍:非接觸等離子體溫度,全范圍精度 ±0.5 %
  2. 0.01 °C 超高分辨率:0.01 °C 分辨率,等離子體溫度微變實(shí)時(shí)捕捉
  3. 5 ms 高速響應(yīng):非接觸,5 ms 高速響應(yīng),適合快速溫度變化
  4. ≤ 1×10?? Pa 真空兼容:真空腔直接安裝,無(wú)泄漏
  5. 1.9 kg 超輕:A5 底面積,可手提移動(dòng),實(shí)驗(yàn)室即用
  6. 5 年壽命:Photrix 傳感器,5 年免維護(hù)

四、典型應(yīng)用系統(tǒng)

復(fù)制
半導(dǎo)體等離子體刻蝕┌─ 等離子體腔體 ─┐│                   │溫度← Photrix ← 真空饋通 NW16│                   │└─ PLC/DCS ──────┘
  • 等離子體溫度 1000 °C,0.01 °C 分辨率,5 ms 響應(yīng)
  • RS-485 實(shí)時(shí)輸出,PLC 閉環(huán)控制

五、實(shí)測(cè)數(shù)據(jù)(等離子體驗(yàn)證)

  • 等離子體:Ar/O?,1000 °C,1×10?? Pa
  • Photrix:
    • 溫度 1000 °C(±0.5 %)
    • 分辨率 0.01 °C(0.01 °C)
    • 響應(yīng)時(shí)間 5 ms(非接觸)

一、產(chǎn)品定位

  • 半導(dǎo)體裝置專用:等離子體刻蝕、CVD、離子注入、ALD
  • 等離子體反應(yīng)溫度:非接觸,真空 ≤1×10?? Pa,450-2000 °C
  • Photrix:非接觸等離子體溫度,0.01 °C 分辨率,5 ms 響應(yīng)

二、核心技術(shù)參數(shù)(Photrix)

表格
復(fù)制
項(xiàng)目參數(shù)
原理非接觸等離子體溫度(Photrix 原理)
溫度范圍450 – 2000 °C(全范圍)
分辨率0.01 °C(0.01 °C 分辨率)
精度±0.5 %(450-2000 °C)
響應(yīng)時(shí)間5 ms(非接觸)
真空度≤ 1×10?? Pa(真空版)
大氣版可選(內(nèi)置窗)
真空接口NW16(可轉(zhuǎn) NW25/NW40)
電源DC 24 V 2 A(含 100-240 V 適配器)
尺寸/重量200×150×45 mm,1.9 kg
壽命5 年(傳感器)

三、功能亮點(diǎn)

  1. 450-2000 °C 全范圍:非接觸等離子體溫度,全范圍精度 ±0.5 %
  2. 0.01 °C 超高分辨率:0.01 °C 分辨率,等離子體溫度微變實(shí)時(shí)捕捉
  3. 5 ms 高速響應(yīng):非接觸,5 ms 高速響應(yīng),適合快速溫度變化
  4. ≤ 1×10?? Pa 真空兼容:真空腔直接安裝,無(wú)泄漏
  5. 1.9 kg 超輕:A5 底面積,可手提移動(dòng),實(shí)驗(yàn)室即用
  6. 5 年壽命:Photrix 傳感器,5 年免維護(hù)

四、典型應(yīng)用系統(tǒng)

復(fù)制
半導(dǎo)體等離子體刻蝕┌─ 等離子體腔體 ─┐│                   │溫度← Photrix ← 真空饋通 NW16│                   │└─ PLC/DCS ──────┘
  • 等離子體溫度 1000 °C,0.01 °C 分辨率,5 ms 響應(yīng)
  • RS-485 實(shí)時(shí)輸出,PLC 閉環(huán)控制

五、實(shí)測(cè)數(shù)據(jù)(等離子體驗(yàn)證)

  • 等離子體:Ar/O?,1000 °C,1×10?? Pa
  • Photrix:
    • 溫度 1000 °C(±0.5 %)
    • 分辨率 0.01 °C(0.01 °C)
    • 響應(yīng)時(shí)間 5 ms(非接觸)


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